Impulsní proces čištění laserů Nd: YAG se opírá o charakteristiky světelných impulsů laseru, založených na paprscích s vysokou intenzitou, krátkých impulzů.
Fotofyzikální reakce způsobené interakcí mezi laserem a kontaminovanými vrstvami. Jeho fyzikální principy lze shrnout takto:
1) paprsek vyzařovaný laserem je absorbován kontaminovanou vrstvou na povrchu, který má být ošetřen.
2) Absorpce velkých energií vytváří rychle se rozšiřující plazmu (vysoce ionizovaný nestabilní plyn), který generuje rázovou vlnu.
3) Nárazová vlna způsobuje, že se kontaminující látky stanou fragmenty a jsou odmítnuty.
4) Šířka světelného impulsu musí být dostatečně krátká, aby se zabránilo nahromadění tepla, které by poškodilo ošetřovaný povrch.
5) Pokusy ukázaly, že když je na povrchu kovu oxid, vytváří se plazma na kovovém povrchu.
Plazma se vytváří pouze tehdy, když hustota energie přesahuje práh, což závisí na odstranění kontaminované nebo oxidové vrstvy. Tato prahová hodnota
Účinek je důležitý pro účinné čištění při zajištění bezpečnosti materiálu podkladu. Existuje také druhý limit pro přítomnost plazmy. Pokud možno
Když hustota množství překročí tuto hranici, materiál substrátu bude zničen. Aby bylo zajištěno účinné čištění podkladového materiálu, musí být založeno na
Parametry laseru jsou nastaveny tak, aby hustota energie světelného impulsu byla striktně mezi dvěma prahy.
Každý laserový impuls odstraňuje určitou tloušťku kontaminované vrstvy. Pokud je kontaminovaná vrstva silná, pro čištění je zapotřebí vícenásobné impulsy. Vysušte povrch
Množství impulsu potřebného pro síťování závisí na stupni povrchové kontaminace. Důležitým výsledkem obou prahů je samočinné čištění. Vysoká hustota energie
Světelné pulsy na prvním prahu vždy odmítnou kontaminanty, dokud nedosáhne materiálu substrátu. Nicméně, protože jeho hustota energie je nižší než hustota materiálu substrátu
Prah je zničen, takže podklad není poškozen.
