Laser se vyznačuje vysokou směrovostí, monochromatikou, vysokou soudržností a vysokým jasem. Prostřednictvím agregace objektivu a Q-přepínače může být energie shromážděna do velmi malého prostoru a časového rozsahu. V procesu laserového čištění se používají především následující charakteristiky laseru:
1. Laser může dokončit vysokou koncentraci energie v čase a prostoru. Koncentrovaný laserový paprsek může produkovat vysokou teplotu tisíců stupňů nebo dokonce desítek tisíc stupňů v blízkosti ohniska, což způsobuje, že se prach odpařuje, odpařuje nebo rozkládá okamžitě.
2. Rozdílový úhel laserového paprsku je malý a směr je dobrý. Za podmínky stejné laserové energie lze hustotu energie laseru nastavit ovládáním místa laserového paprsku s různými průměry tak, aby se prach a nečistoty při zahřátí zvětšily. Když je expanzní síla prachu větší než adsorpční síla prachu na podkladu, prach opustí povrch objektu.
3. Laserový paprsek může produkovat ultrazvukové vlny a mechanické rezonance na povrchu pevné látky, takže prach může být rozbité a spadl. Laserové čištění technologie využívá vlastnosti laseru a pak dosáhne záměru čištění. Podle optických vlastností vyčištěného substrátu a vyčištěného prachu lze mechanismus laserového čištění rozdělit do dvou kategorií: jedna je, že absorpční koeficient laserové energie při určité vlnové dýmce pomocí čisticího substrátu (známého také jako matka) a vnější příloha (špína) je velmi odlišná. Většina laserové energie vyzařované na povrch je absorbována povrchovým nástavcem a poté se zahřívá nebo se vypaří nebo okamžitě rozšíří a je poháněna vytvořeným proudem vzduchu, opouští povrch objektu a dosahuje záměru čištění. Nicméně, substrát nebude poškozen kvůli velmi malé laserové absorpční energie v této vlnové délky. Pro tento druh laserového čištění zvolte vhodnou vlnovou délku a řízení velikosti laserové energie je klíčem k dokončení bezpečného a efektivního čištění. Druhý je vhodný pro čištění substrátu a povrch připevnění koeficientu absorpce energie laseru se neliší, nebo substrát je citlivější na kyselou páru tvořenou ohřevem povlaku, nebo povlak bude po zahřátí produkovat toxické látky. Tento druh metody obvykle používá vysoký výkon a vysokou rychlost opakování pulzní laser šok ovaný vyčištěný povrch, takže část paprsku je přeměněna na zvukovou vlnu. Poté, co zvukové vlny narazí na tvrdý povrch základní vrstvy, zadní část interaguje s incidentem zvukové vlny laseru a vysokoenergetická vlna vypukne, což způsobí, že povlak exploduje v malém rozsahu. Povlak je lisován na prášek a poté odstraněn vývěčím, zatímco níže uvedený substrát nebude poškozen.
Laserový čisticí stroj
60W laserový čisticí stroj
100W laserový čisticí stroj
200W laserový čisticí stroj
Vzorky čištění
